新聞資(zi)訊

新材料科技(ji)與化學技術創(chuang)新

首頁

簡要(yào)總結了光固化(hua)粘合劑及其應(yīng)用的特點、配方(fāng)設計要點、難點(diǎn)和核心性能指(zhǐ)标；從技術特色(sè)和技術先進性(xing)角度提出了一(yi)些值得關注、并(bing)有較大市場空(kōng)間的光固化粘(zhan)合劑，包括UV壓敏(min)膠、複合膠、建築(zhù)膠、電子膠和光(guang)學膠；分析了提(tí)高光固化的官(guan)能團轉化率的(de)重要性以及新(xīn)原料、新産品開(kāi)發方面的一些(xie)難題。

光刻膠 | 半(bàn)導體高壁壘核(hé)心材料

導言：光(guāng)刻膠目前廣泛(fan)用于光電信息(xī)産業的微細圖(tu)形線路加工制(zhi)作，光刻工藝的(de)成本約占整個(ge)芯片制⚽造工藝(yi)的✂️35%，耗時占整個(ge)芯片工藝的40%到(dao)60%，是半導體制造(zào)中的核心工藝(yi)💯。光刻膠材料約(yue)占芯片制造材(cái)料總成本的4%，是(shi)半導體集成電(diàn)路制造☎️的核心(xīn)材料。中國光刻(kè)✂️膠市場增速高(gāo)于國際水平，據(ju)前瞻産🙇🏻業研究(jiu)院數據🚩，2019年我國(guó)光刻膠本土供(gong)應量約70億元，自(zi)2010年起複合增速(su)達11%，遠高于全球(qiu)增速，但本土供(gòng)應量在全球占(zhan)比僅10%左右，且以(yi)已經實現🧑🏽‍🤝‍🧑🏻國産(chan)替代的主要是(shi)中低端PCB光刻膠(jiao)，LCD和半導🥰體領域(yu)的光刻膠自給(gei)率極低。光刻膠(jiāo)是圖形轉移介(jiè)質，其利用光照(zhào)反🏃‍♂️應後溶解度(dù)不同将掩膜版(ban)⁉️圖形轉移至襯(chèn)底上，主要由感(gan)光劑(光引發劑(jì))、聚合劑(感光樹(shù)脂)、溶劑與助劑(ji)構成。光刻膠原(yuán)材料主要爲樹(shù)脂、溶劑和其他(ta)添加劑。其中溶(rong)劑👣質量占比最(zuì)大，一般在80%以上(shang)。其他添😄加劑質(zhi)量占比雖不㊙️足(zú)5%，卻是決定光刻(kè)膠特有性質的(de)關鍵材料，包括(kuo)光敏劑🔴、表面活(huó)性劑等材料。在(zai)光刻工藝中，光(guang)刻膠被均勻塗(tu)布在矽片、玻璃(li)和金屬等不同(tong)的襯底上，經曝(pù)光、顯影和蝕刻(kè)等工序将掩🐉膜(mo)版上的🐪圖形轉(zhuan)移到薄膜上，形(xing)成與掩膜版完(wan)全🔞對應的幾何(hé)圖形。光刻膠可(ke)根據其下遊應(ying)用領域☂️分爲半(ban)導體👉光刻膠、面(mian)闆光刻㊙️膠和PCB光(guang)刻膠三類。半導(dǎo)體光刻膠目前(qian)，KrF/ArF仍是主流的加(jia)工材料。光刻技(ji)術随着集成電(dian)路的發展經曆(lì)了從G線（436nm）光♈刻，H線(xian)（405nm）光刻，I線（365nm）光刻，到(dao)⛹🏻‍♀️深💋紫外線DUV光刻(kè)（KrF248nm和ArF193nm）、193nm浸沒式加多(duō)重成像技術🔴（32nm-7nm），在(zài)到極端紫外線(xiàn)（EUV，＜13.5nm）光刻的發展，甚(shen)至采用非光學(xué)光刻（電子束曝(pù)光、離子束曝光(guāng)），以相應波長爲(wei)感光波長的各(ge)類光刻膠也應(yīng)用而生。光刻膠(jiāo)市場行業集中(zhong)度高。日本企業(yè)在半導體光刻(ke)膠領域占據絕(jue)對優勢。半導體(ti)光刻膠主要生(shēng)産企業包括日(rì)本東京應化、JSR、住(zhu)友化學、信越化(hua)學；韓國東進世(shì)美肯；美國陶氏(shì)杜邦，其中日本(běn)企業占據約70%市(shì)場份額。分産品(pǐn)看，東京應化在(zai)g線/i線和Krf光刻☔膠(jiāo)領域居龍頭地(di)位，市場份額分(fen)别達到27.5%和32.7%。JSR在Arf光(guāng)刻膠領域市占(zhàn)🌍率最高，爲25.6%。根據(jù)富士經濟預測(cè)，2023年全球ArF、KrF膠産能(neng)㊙️有望達到1870、3650噸，市(shì)場規模近49、28億元(yuan)。日本光刻膠龍(long)頭JSR、TOK包🥵括光刻膠(jiao)在内的業務毛(mao)利率約40%，其中光(guang)刻膠原料成本(ben)約占90%。國内半導(dǎo)體用光刻膠生(shēng)産企業🔅包括上(shang)海新陽、南大光(guāng)電、晶瑞股份、北(bei)京科華、恒坤股(gǔ)份。目前隻有北(běi)京科華、晶瑞股(gǔ)份具備量産KrF光(guāng)刻膠能力，北京(jīng)科華産品已爲(wei)中芯國際供貨(huo)。上海新陽在建(jian)的19000噸/年ArF（幹法）光(guāng)刻膠項目預計(ji)2022年達産。面闆光(guang)刻膠光刻膠是(shi)LCD面闆制造的關(guan)鍵材料，根據使(shǐ)用對象的不同(tong)，又可分爲RGB膠、BM膠(jiāo)、OC膠、PS膠、TFT膠等。面闆(pǎn)光刻膠主要包(bao)括TFT配線用光刻(kè)膠、LCD/TP襯墊料光刻(kè)膠、彩色光刻膠(jiao)及黑色光刻膠(jiao)四大類别。其中(zhōng)TFT配線用光刻膠(jiāo)用于對ITO布線，LCD/TP沉(chen)澱料光刻膠用(yong)于使LCD兩♻️個玻璃(li)基闆間的液晶(jing)材料厚度保持(chi)恒定。彩色光刻(kè)膠及黑色光🔞刻(ke)膠可賦予彩色(se)濾光片顯色功(gong)能。面闆☂️光刻膠(jiāo)市場需要構成(chéng)穩定，彩色光🔴刻(kè)膠需求量領先(xiān)，預計2022年全球銷(xiao)售量将達22900噸，銷(xiao)售🏃🏻‍♂️額将達8.77億美(měi)元。 TFT面闆用光刻(ke)膠🈲、LCD/TP襯墊料光刻(kè)膠、黑色光刻膠(jiao)銷售☁️額2022年預計(ji)分别達到3.21億美(měi)元、2.51億美元、1.99億美(měi)元。根據智研咨(zi)詢測算✏️，2020年全球(qiú)面闆光🔞刻膠市(shì)場規模将達到(dào)167億人民币，增速(sù)維持在4%左右。根(gen)據我們的測算(suan)，到2025年光刻膠市(shi)場規模🌈将達到(dào)203億人民币。其中(zhōng)，伴随LCD産業中心(xin)的轉移，我國LCD光(guang)刻膠市場規模(mo)及國産化率有(yǒu)望逐步提升。 PCB用(yong)光刻膠 PCB光刻膠(jiāo)可根據塗布方(fāng)式分爲UV固化油(yóu)墨和UV噴塗油墨(mo)。目前國内PCB油墨(mò)供應商已逐步(bù)實現國産替代(dai)，容大感🐆光、廣信(xìn)材🏃料等企業已(yǐ)掌握PCB油墨關鍵(jiàn)技術。國内對TFT光(guang)刻膠和半導體(tǐ)光刻膠仍在起(qǐ)步探索階段。晶(jing)瑞股份🐅、雅克✂️科(kē)技、永太科技、容(rong)大感光、欣奕華(huá)、中電彩虹、飛凱(kǎi)材料在TFT光刻膠(jiao)領域均有布⭐局(jú)，其中飛凱材料(liao)、北旭電子規劃(hua)産能高達5000噸/年(nián)，雅克科🐅技通過(guo)收購LG化學下屬(shu)🧡彩色光刻膠事(shì)業💛部切入此市(shì)場，在渠道和技(jì)術🌍方面具備優(yōu)勢。光刻膠等技(jì)術壁壘極高的(de)行業，實🧑🏾‍🤝‍🧑🏼現技術(shu)層面的突破是(shi)基礎、其次，需不(bú)斷改進工藝✉️，滿(mǎn)足半導體行業(yè)快速發☁️展的需(xu)要。由于光🧡刻膠(jiao)等行業認證時(shí)間較長，客戶不(bú)會輕易更換供(gong)應商，因此進入(rù)主流供🐉應鏈是(shi)極其必要的。國(guo)内光刻膠生産(chǎn)商未來有望把(ba)握中國半導體(tǐ)行業進口替代(dài)契♻️機，實現快速(sù)發🌏展。 ◆ 資料來源(yuan)：電子材料圈 ◆ 免(miǎn)責聲明：所載内(nei)容來源于互聯(lian)🈲網，微信🈲公衆号(hào)等公開渠道，我(wo)們對文中觀點(diǎn)持中立态度，本(běn)文僅供參考、交(jiao)流。轉載的稿件(jian)版權歸原作者(zhe)🍉和機構所有。

代(dai)理花王化學HOMOGENOL L-28E分(fen)散劑

深圳市同(tóng)泰化學技術有(yǒu)限公司代理日(rì)本花王化☔學KAO CHEMICAL HOMOGENOL L-28E分(fèn)🈲散劑。産品及技(jì)術咨詢電話/Product Enquiry： +86-755-2722 5202 +86-157 9588 8262（吳(wu)經理）。

發布時間(jiān):

2025-12-16

< 1...40 41 42...65 >