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光刻膠 | 半導(dǎo)體高壁壘核(hé)心材料
導言(yán):光刻膠目前(qián)廣泛用于光(guāng)電信息産業(yè)的微細圖🔴形(xing)線路加工制(zhi)作,光刻工藝(yì)的成本約占(zhàn)整個芯♍片制(zhì)造工藝的35%,耗(hào)時占整個芯(xīn)片工藝的40%到(dao)60%,是半導體制(zhì)造中的核心(xīn)工藝。光刻膠(jiao)材料約占芯(xin)片制造😍材料(liao)總成本的4%,是(shì)半導體集成(cheng)電路制造的(de)核心材料。 中(zhōng)國光刻♻️膠市(shi)場增速高于(yú)國際水平,據(jù)前瞻産✊業研(yán)究院數據,2019年(nián)我國光刻膠(jiao)🌈本土供應量(liang)約70億元,自2010年(nian)起複合增速(su)達11%,遠高于全(quan)球增⭐速,但本(běn)土供應🈲量在(zài)全球占比僅(jǐn)10%左👅右,且以已(yǐ)經實現國産(chǎn)替代的主要(yao)是中低端PCB光(guang)刻膠,LCD和半導(dǎo)體領域的光(guāng)刻♊膠自給率(lǜ)極低。 光刻膠(jiāo)是圖形轉移(yi)介質,其利用(yòng)光照反應後(hòu)溶解度不同(tóng)将掩膜版圖(tú)形轉移至襯(chen)底上,主✏️要由(yóu)感光劑(光引(yin)發劑)、聚合劑(jì)🚶♀️(感光樹脂)、溶(rong)劑與助劑構(gou)成。 光刻膠原(yuan)材料主要爲(wèi)樹✔️脂、溶劑和(hé)其他添加劑(jì)。其中溶劑質(zhì)量占比最大(dà),一般在80%以上(shang)。其他添🐉加劑(jì)質量占比雖(sui)不足5%,卻是決(jue)定光刻膠特(te)有性質的關(guān)鍵材料,包括(kuo)光敏劑、表面(miàn)活性劑等材(cai)料。 在光刻工(gōng)藝中,光🌈刻膠(jiao)被均勻塗布(bù)在矽片、玻璃(lí)和金屬🐉等不(bú)同的襯底上(shang),經🏃🏻♂️曝光、顯影(yǐng)和蝕刻等工(gong)序将掩膜版(ban)上的圖形轉(zhuan)移到薄膜🎯上(shang),形成與掩膜(mó)版完全對應(yīng)的幾何圖形(xíng)。 光刻膠可根(gen)據其下遊應(yīng)用💃🏻領域💞分爲(wèi)半導體光刻(ke)膠、面闆光刻(kè)💋膠和PCB光刻膠(jiao)⛷️三類。 半♈導🏃🏻♂️體(tǐ)光刻膠 目前(qian),KrF/ArF仍是主流的(de)加工材料。光(guang)刻技術随着(zhe)💋集成電路的(de)發展經曆了(le)從G線(436nm)光👈刻,H線(xian)(405nm)光刻,I線(365nm)光刻(kè),到深♋紫外線(xian)DUV光刻(KrF248nm和ArF193nm)、193nm浸沒(méi)式加多重成(cheng)像技術🏃♀️(32nm-7nm),在到(dao)極端紫外線(xiàn)(EUV,<13.5nm)光刻的發展(zhǎn),甚至采用非(fēi)光學光💘刻(電(dian)子束曝光、離(li)子✔️束🛀🏻曝光),以(yi)相應波長爲(wèi)感光波長的(de)各類光刻膠(jiao)也應用而生(sheng)。 光刻膠市場(chǎng)行業集中度(dù)高。日本企業(yè)在半導體光(guang)刻膠領域占(zhan)據絕對優勢(shi)。半導體光刻(ke)膠主要生産(chǎn)企業包括日(rì)本東京應化(hua)、JSR、住友化學、信(xìn)越化學;韓國(guó)東進世美肯(ken);美國陶🏒氏杜(du)邦,其中日本(běn)企業占據約(yuē)70%市場份額。分(fen)産💁品看🈲,東京(jīng)應化在g線/i線(xian)和㊙️Krf光刻膠領(lǐng)域居龍頭地(di)位,市場⁉️份額(é)分别達到27.5%和(he)32.7%。JSR在Arf光刻膠領(ling)域市占率最(zuì)高,爲25.6%。 根🥵據富(fù)士經濟預測(cè),2023年全球ArF、KrF膠産(chan)能🍉有望達到(dào)1870、3650噸,市場🏃🏻規模(mo)近49、28億元。日本(běn)光刻膠龍頭(tóu)JSR、TOK包♍括光刻膠(jiao)在内的👅業務(wu)毛利率約40%,其(qí)中光刻膠原(yuan)料成本約占(zhàn)90%。 國内半導體(tǐ)用光刻膠生(sheng)産企業包括(kuò)上海新陽、南(nán)大光電、晶瑞(rui)股份、北京科(ke)華、恒坤💃🏻股份(fèn)。目前隻有北(běi)京科華、晶瑞(rui)股份具備量(liang)産KrF光刻膠能(néng)力,北京科華(huá)産✌️品已👅爲中(zhōng)芯國際供貨(huo)。上海新陽在(zai)建的19000噸/年ArF(幹(gan)法)光刻膠項(xiàng)目預計2022年達(da)産。 面闆光刻(ke)膠 光刻膠是(shì)LCD面闆制⛹🏻♀️造的(de)關鍵材料,根(gen)據使用對⛷️象(xiang)的不同,又可(kě)分爲RGB膠、BM膠、OC膠(jiāo)、PS膠、TFT膠等。 面闆(pan)光刻膠主要(yào)包括TFT配線用(yong)光刻膠、LCD/TP襯墊(niàn)料光刻膠、彩(cai)色光刻膠及(ji)黑色光刻膠(jiāo)四大類别。其(qi)中TFT配線用光(guang)刻膠用于對(duì)ITO布線,LCD/TP沉澱料(liào)光刻膠用于(yú)使LCD兩🈲個玻璃(li)基闆間的液(ye)晶材料厚度(du)保持恒定。彩(cǎi)色光刻⭐膠及(ji)黑色光刻膠(jiāo)可賦予彩色(se)濾光片顯色(se)功能。 面闆光(guāng)刻膠市場需(xū)要構成穩定(dìng),彩色光刻膠(jiao)需求量領先(xian)🌏,預計2022年全球(qiú)銷售量将達(dá)22900噸,銷售額将(jiang)達8.77億美元。 TFT面(miàn)闆💜用光刻膠(jiao)⛱️、LCD/TP襯墊料光刻(kè)膠、黑色光刻(ke)膠銷售額2022年(nián)預計👣分别達(dá)到3.21億美元、2.51億(yì)美元、1.99億美元(yuan)。 根據智研咨(zī)詢測算,2020年全(quan)球面闆光✂️刻(kè)膠市場📱規模(mo)将達到167億人(rén)民币,增速維(wéi)持在4%左右。根(gen)據我們的測(cè)算,到2025年光刻(kè)膠市場規模(mó)将達到203億人(rén)民币。其中,伴(bàn)随LCD産業中心(xin)的轉移,我國(guó)LCD光刻膠市場(chǎng)規模及國産(chan)化率有望逐(zhú)步提升。 PCB用光(guāng)刻膠 PCB光刻膠(jiāo)可根據塗布(bù)方式分爲UV固(gù)化油墨和UV噴(pen)🌈塗油墨。目前(qián)國内PCB油墨供(gong)應商已逐🏒步(bu)實現國産替(ti)代,容大㊙️感✉️光(guang)、廣信材料等(deng)企業已掌握(wo)PCB油墨關鍵技(ji)術。 國内對⭐TFT光(guang)刻膠和半導(dao)體光刻膠仍(réng)在起步探索(suo)階段。晶瑞股(gu)份、雅⚽克科技(jì)、永太🐅科技、容(rong)大感光、欣奕(yi)華、中電彩虹(hóng)、飛凱材料在(zai)TFT光刻膠領域(yù)均有布局,其(qi)中飛凱材料(liao)、北旭電子規(guī)劃産能高達(da)5000噸/年,雅克科(ke)技通過收購(gou)LG化學下屬彩(cai)色光刻膠事(shi)業部切入此(cǐ)市場,在渠道(dao)和✔️技術方面(miàn)📞具備優勢。 光(guang)刻膠等技術(shu)壁壘極高的(de)行業,實♉現技(jì)術⛹🏻♀️層面💁的突(tu)破是基礎、其(qi)次,需不斷改(gai)進工藝,滿足(zu)半導💜體行業(ye)快速發展的(de)需要。 由于光(guāng)刻膠等☎️行業(ye)認證時間較(jiao)長,客戶不會(huì)輕易更換供(gòng)應商,因此進(jin)入主流供⛷️應(ying)鏈是極其必(bì)要的。國内光(guāng)刻膠生産商(shang)未來有望把(ba)握❓中國半導(dǎo)體行業進口(kou)替代契機,實(shi)現快速📐發展(zhǎn)。 ◆ 資料來源:電(dian)子材料圈 ◆ 免(miǎn)責聲明:所載(zǎi)内容來源于(yú)互聯網,微信(xìn)公衆号等公(gong)開渠道,我們(men)對文中觀點(diǎn)持中立态度(dù),本文僅供參(cān)考、交流。轉載(zai)的稿件版權(quán)歸原作者和(hé)機構所有。
發(fā)布時間:
2025-12-13
什麽是酸(suan)銅中間體
酸(suān)銅中間體是(shì)可在酸性鍍(dù)銅光亮劑中(zhong)提供流平,定(ding)位和分散♋性(xing)能的材料的(de)總稱。它主要(yào)包括酸性銅(tóng)染料,表面活(huo)性劑👈,濕潤劑(ji),防霧劑等,并(bìng)且在電路闆(pan)電鍍和硬件(jian)電鍍中具有(you)廣泛的用途(tu)。電路闆的👣酸(suan)性銅鍍層中(zhōng)通常使用的(de)是通孔銅鍍(du)層,盲孔鍍🈲銅(tóng)層,緞面銅等(děng)。所用的酸銅(tóng)中間體主要(yào)包括DEB-45,DEB-MP5,COMP3805,SPS等材料(liào)。
發布時間:
五金酸(suān)銅中間體AP-3表(biǎo)面活性劑脂(zhī)肪醇聚氧乙(yi)烯聚氧丙烯(xi)🐪醚
AP-3是脂肪醇(chún)聚氧乙烯聚(ju)氧丙烯醚(100%有(you)效成分),屬于(yu)非離子表💃面(miàn)活性劑,作爲(wèi)現時電鍍酸(suan)銅添加劑中(zhōng)較優秀的一(yi)款酸銅中間(jian)體,可作爲德(de)系五金酸銅(tong)主潤濕及🧡整(zheng)平加💋強劑、主(zhu)走位劑🌐。
發布(bu)時間:
二氧化矽膠(jiao)體微粒的溶(rong)液“矽溶膠”能(neng)幹啥?
Silica Sol矽溶膠(jiāo)是二氧化矽(xī)膠體微粒在(zai)水中均勻分(fen)散形成的膠(jiāo)體溶液,具有(yǒu)許多優良性(xing)質和特點,作(zuò)爲一種精細(xi)化工産品,現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于化工、材(cái)料、紡織、造紙(zhi)、電子等工業(ye)領域。早在1915年(nian),Schwerin首次以水玻(bō)璃爲原料,采(cai)用電滲析法(fǎ)制備出含二(er)氧化矽質量(liang)分數🌈2.4%的矽溶(rong)膠,隻🔞是濃度(dù)太低,并沒有(you)什麽實際應(yīng)用意義,1941年Bird利(li)用離子交換(huàn)法制得高濃(nong)度的矽溶膠(jiao)後,才得以大(dà)規模的生産(chan)和應用。
中國中化:兩(liang)化重組正式(shi)落子雄安!
中(zhong)國中化是由(you)中國中化集(ji)團有限公司(sī)與中國化🍓工(gōng)集團💁有限公(gong)司聯合重組(zǔ)而成,爲國務(wù)院國資委監(jian)管的國有重(zhòng)要骨⛷️幹企業(yè),員工22萬人。
發(fa)布時間:
上海新陽(yáng):與Heraeus簽訂《合作(zuo)備忘錄》,推進(jìn)半導體光刻(ke)膠發展
近日(rì),上海新陽半(ban)導體材料股(gu)份有限公司(si)發布了關于(yú)簽訂《合👌作備(bei)忘錄》的公告(gao),公告顯示上(shàng)海新陽與 HeraeusDeutschland GmbH & Co. KG(以(yǐ)下簡稱“Heraeus”)簽署(shǔ)的《合作備忘(wàng)錄》系雙方就(jiù)建立合作關(guān)系而簽署的(de)框架協議,爲(wei)解決中國半(ban)導體供應鏈(lian)面臨的新挑(tiāo)戰,推進半導(dǎo)體光刻膠🥰的(de)發展,雙方将(jiāng)深度合作,共(gong)同努力優化(huà)創新的光刻(kè)膠解決方案(àn)。 圖片來源:上(shang)海新陽 公告(gào)稱上海新陽(yang)作爲國内集(ji)成電路制造(zào)關鍵工藝材(cái)料供應商,自(zi)立項進行光(guang)刻膠項目研(yan)發🏃♀️以來,将突(tu)破集成電路(lù)高端光刻膠(jiāo)國外壟斷,實(shí)現集成電路(lu)⚽高端光刻膠(jiao)材料的國産(chan)化作爲發展(zhǎn)目标,在ArF幹法(fǎ)、KrF厚膜及I線光(guāng)刻膠方面已(yi)有技術與産(chǎn)品的突破,部(bù)分産品已經(jing)拿到訂單。 上(shang)❓海新陽表示(shì),公司與Heraeus簽署(shu)本♊協議,旨在(zài)完善光刻膠(jiāo)供應鏈,爲光(guāng)刻膠項目的(de)開展提供材(cai)料和技☁️術保(bao)障,對加快🌏公(gōng)司集成電路(lù)制造用光刻(ke)膠産品研發(fa)項目進度有(you)積極影響,有(yǒu)利于加💰速落(luò)實公司發展(zhǎn)戰略,提高公(gong)司可持續發(fā)展能力。 據上(shang)海新陽2021年第(di)三季度報告(gào)顯示,今🏃♂️年前(qián)三季度公司(sī)🏃♂️實現營🔅業收(shōu)入實現營業(yè)收入71,195.83萬元,較(jiào)上年同比增(zeng)長46.31%;實現歸屬(shǔ)于上市公司(si)股東的淨利(li)潤8492.42萬元,較上(shàng)年同比下降(jiàng)51.99%。 在先前的三(sān)季🌍度業績預(yù)告中,上海新(xin)陽表示: 年初(chu)至報告期末(mo),公司營業收(shou)入繼續保持(chi)大幅增長,半(bàn)導體和塗料(liao)業務銷🔴售收(shou)入均實現了(le)50%左右的🔅增長(zhǎng)☀️; 由于公司開(kai)展光刻膠項(xiàng)目和參與國(guo)家重大✏️科技(jì)項👅目,研發投(tóu)入持續加大(dà),研發費用增(zēng)加明顯🧡。 今年(nian)6月末❤️,上海新(xīn)陽發布公告(gao)稱,公司自主(zhu)研發的KrF(248nm)厚膜(mó)光刻膠産品(pin)近日已通過(guò)客戶認證,并(bìng)成功取得第(di)一筆訂單。公(gōng)告稱,上海新(xīn)陽開發的365nm I線(xian)、248nm KrF、193nm ArF幹法及💞濕法(fǎ)光刻膠可适(shì)應國内0.35-0.11微米(mǐ)、90-28nm芯片工☀️藝技(ji)術節點的需(xū)求。 12月13日,上海(hai)新🐆陽在投資(zī)者互動平台(tái)表示,目前KrF光(guāng)刻膠有持續(xù)訂單,ArF光刻膠(jiāo)尚在認證當(dang)中。 來源✊:勢銀(yín)膜鏈
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