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Copper Gleam™ HV-101 & HV-606 Electrolytic Copper
Copper Gleam™ HV-101 and HV-606 electrolytic coppers are the latest offerings for panel plating in Vertical-in-Line equipment. They deliver high plating efficiency to improve productivity and reduce cost.
發布(bu)時間:
2025-12-13
Copper Gleam™ HS-200 Electrolytic Copper from Dupont Dow Rhom Hass Company
The Copper Gleam™ HS-200 bath is a full bright acid copper plating process specifically formulated for use in conveyorized plating equipment with insoluble anode. Formulated for high current density plating, the process is capable of producing uniform, bright deposits of high ductility and tensile strength in accelerated plating times.
發布(bù)時間:
Circuposit™ 3000-1 from Dupont Dow Rhom Hass Company
Circuposit™ 3000-1 Electroless Copper is a unique, patented process that is widely used by leading PCB fabricators throughout the world. This novel self-accelerating electroless copper eliminates the need for a separate accelerator step, saving space and improving quality and control. The 3350-1 electroless copper bath is formulated to provide improved physical properties and produce exceptionally fine-grain, low-stress deposits, which yield enhanced hole-wall coverage and excellent adhesion even on the most demanding high-performance substrates.
BS-5烷基(ji)二甲基氯化铵(ǎn)與二氧化硫共(gong)聚的季铵鹽表(biao)面活性劑
酸性(xing)鍍銅中間體。烷(wán)基二甲基氯化(huà)铵與二氧化硫(liu)共聚的季铵鹽(yan),陽離子型。應用(yòng)于生産酸性鍍(dù)銅光亮劑用做(zuo)主整平劑(LEVELER),可以(yǐ)有效降低HCD(高電(diàn)流密度區)沉積(ji)速率,提高LCD(低電(diàn)流密度區)沉積(ji)速率。能增進鍍(dù)銅的均勻度,有(you)效提高鍍銅光(guāng)亮性,添加量少(shǎo),性價🔞比高,可配(pèi)制成高效光亮(liang)低應力的鍍銅(tong)光亮劑。環保型(xing)材料,建議在光(guāng)劑産品中添加(jia) 5-10 G/L 。
發布時間:
BOPP、BOPET等多基材包裝(zhuāng)薄膜用水性塗(tu)料樹脂
近年來(lái)PET、PI、PC、PMMA、PVC、PS等高分子薄膜(mo)産品在各領域(yu)的應用越來🙇🏻越(yuè)🏒普及,這些⭐材料(liào)具有優秀的光(guāng)學透明性、物理(lǐ)機⁉️械和化學穩(wěn)定☔性,并且可❗以(yi)通過附加功能(neng)塗層實現表面(miàn)防靜電、導電、發(fa)熱、減反、消光其(qí)他特殊效果📐,使(shǐ)得這些高分子(zǐ)薄膜材料的🤞功(gōng)能性得到完善(shan),同時使薄膜的(de)🔴品質得到提升(sheng),應用範圍得到(dào)擴展,具有很高(gāo)的經濟價值。薄(bao)膜表面功能化(hua)塗層的實施目(mù)的有3個:一是賦(fù)予薄膜新的功(gōng)能👨❤️👨;二是對薄膜(mo)進行保護提
發(fa)布時間:
BondFilm工(gong)藝介紹
通常來(lai)說,BondFilm工藝會将銅(tong)微蝕刻至1.2 到1.5 µm的(de)厚度,同時将銅(tong)表面(200 - 300 A)轉化成期(qi)望的有機-金屬(shu)結構。通過這個(gè)工藝後,可見的(de)結果便是形成(cheng)一個棕色的均(jun)勻鍍層。雖然銅(tóng)的蝕刻💘會随着(zhe)🔴浸置時間而不(bú)斷進行,但是⭕實(shi)際上BondFilm粘附層的(de)生長是受自我(wǒ)限制的,在該層(ceng)的🤩形成和溶解(jie)🥵達到平衡後,就(jiu)會達到了一個(gè)最大厚度。
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