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新材料科(kē)技與化學技(ji)術創新

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簡要總(zong)結了光固化(huà)粘合劑及其(qi)應用的特點(dian)、配方設計要(yào)點、難點和核(he)心性能指标(biao)；從技術特色(sè)和技術先進(jin)性角度提出(chu)了一些值得(dé)關注、并有較(jiào)大市場空間(jiān)的光固化粘(zhan)合劑，包括UV壓(ya)敏膠、複合膠(jiao)、建築🥵膠、電子(zi)膠和光學膠(jiāo)；分析了提㊙️高(gao)光固化的官(guan)能團轉化率(lǜ)的重要性以(yǐ)及新原料、新(xīn)産品開發方(fang)面的⭐一些難(nán)題。

光刻(kè)膠 | 半導體高(gāo)壁壘核心材(cai)料

導言：光刻(ke)膠目前廣泛(fan)用于光電信(xìn)息産業的微(wei)細圖形☂️線路(lù)加工制作，光(guāng)刻工藝的成(chéng)本約占整個(ge)芯片制造工(gong)藝的35%，耗時占(zhàn)整🙇🏻個芯片工(gong)藝的40%到60%，是半(bàn)導體制造中(zhong)的核心工藝(yì)。光刻膠材料(liào)約占芯片制(zhì)造材料總成(cheng)本的4%，是半導(dao)體集成✔️電路(lu)制造的核心(xīn)材👌料。中國光(guāng)刻🌈膠市場增(zēng)速高于國際(jì)水平，據前瞻(zhan)産業研究院(yuan)數據，2019年我國(guo)光刻膠💞本土(tu)供應量約70億(yì)元，自2010年起複(fu)合增速達11%，遠(yuan)高于全球增(zēng)速，但本土供(gong)應量在全球(qiu)占比僅10%左右(you)，且以已經實(shi)現國産替代(dài)的主要是中(zhong)低端PCB光刻膠(jiao)🌈，LCD和半導🐪體領(ling)域的光刻膠(jiāo)自🥵給率極低(dī)。光刻膠是圖(tú)形轉移介質(zhì)，其利🐕用光照(zhao)反應後溶解(jiě)度不同将掩(yan)膜✉️版🥰圖形轉(zhuan)移至襯底上(shàng)，主🚶‍♀️要由感光(guāng)劑(光引發劑(ji))、聚合劑(感🔞光(guang)樹脂)、溶劑與(yu)助劑構成。光(guang)刻膠原材料(liào)主要爲樹脂(zhī)、溶‼️劑和其他(ta)添🛀🏻加劑。其中(zhong)溶劑質量占(zhan)比最大，一般(ban)在80%以上。其他(tā)添加劑質量(liàng)占比雖不足(zu)5%，卻是決定光(guāng)刻膠特有性(xing)質的關鍵材(cái)料，包括光敏(mǐn)劑🏃‍♀️、表面活性(xing)劑等材料。在(zài)光🈲刻工藝中(zhōng)，光刻膠被均(jun1)勻塗布在矽(xī)片、玻璃🏃🏻和金(jīn)屬等不同的(de)襯底上，經曝(pu)光、顯影和蝕(shi)刻等工序将(jiang)掩膜版上的(de)圖形轉移到(dao)薄膜上，形成(cheng)與掩膜版完(wan)全對應的幾(jǐ)何圖形。光刻(ke)膠可根據其(qí)下遊應用領(lǐng)域分爲半導(dǎo)體光刻膠、面(mian)闆光刻膠和(he)PCB光刻膠三類(lei)。半導體光刻(kè)膠目前，KrF/ArF仍是(shi)主流的加工(gong)材料🔴。光刻技(jì)術⭐随着集成(cheng)電路的發展(zhǎn)經曆了從G線(xiàn)（436nm）光刻，H線（405nm）光刻(ke)，I線（365nm）光刻，到🚩深(shēn)紫外線DUV光刻(ke)（KrF248nm和ArF193nm）、193nm浸沒式加(jiā)多重成像技(jì)術🙇‍♀️（32nm-7nm），在到極端(duān)紫外♊線（EUV，＜13.5nm）光刻(ke)的發展，甚至(zhì)采用非光學(xué)光❗刻（電子束(shù)曝😄光、離子🤞束(shu)⭕曝光），以相應(yīng)波長爲感光(guang)波長的各類(lei)光刻膠也應(yīng)用🏒而生。光刻(kè)膠市場行業(yè)集🈚中度高。日(rì)本企業在半(bàn)導體光刻膠(jiao)領域占據絕(jué)對優勢。半導(dǎo)體光刻膠主(zhu)要生産企業(yè)包括日本東(dōng)京應化、JSR、住友(yǒu)化學、信越化(hua)👈學；韓國東進(jìn)世美肯；美國(guo)陶氏⭕杜邦，其(qi)中🔆日本企業(ye)占據約70%市場(chǎng)份額。分産品(pǐn)看，東京應化(hua)在g線/i線和Krf光(guang)刻膠領域居(jū)龍頭地位，市(shi)場份額分别(bie)達到27.5%和32.7%。JSR在Arf光(guāng)刻膠領域市(shi)占率最高，爲(wèi)25.6%。根👨‍❤️‍👨據富士經(jing)濟預測，2023年全(quán)球ArF、KrF膠産能有(yǒu)望達到1870、3650噸，市(shì)場🌂規模近49、28億(yì)元。日本光刻(kè)膠龍頭JSR、TOK包括(kuò)⭐光刻膠在内(nei)的業務毛利(lì)率約❤️40%，其中光(guang)刻膠原料成(cheng)本約㊙️占90%。國内(nèi)半導體用光(guang)刻膠生産企(qi)業💔包括上海(hai)新陽、南大光(guang)電🚶‍♀️、晶瑞股份(fèn)、北京科華🈲、恒(heng)坤股份。目前(qian)隻有北㊙️京科(ke)華、晶瑞股份(fen)具備量産KrF光(guāng)刻膠能力，北(bei)京科華産品(pǐn)已🌈爲中芯國(guo)際供貨。上海(hai)新陽在建的(de)19000噸/年ArF（幹法）光(guang)刻膠項目預(yu)計2022年達産。面(mian)闆光刻膠光(guang)刻膠是LCD面闆(pan)制造的關鍵(jian)材料，根據使(shi)用♋對🤞象的不(bú)同，又可分爲(wei)RGB膠、BM膠、OC膠、PS膠、TFT膠(jiāo)等。面闆光刻(ke)膠主要包括(kuò)TFT配線用光刻(ke)膠⛱️、LCD/TP襯墊料光(guāng)刻膠、彩色光(guāng)刻膠及黑色(sè)光刻膠四大(dà)類❓别。其中TFT配(pei)線用光刻膠(jiāo)用于對⁉️ITO布線(xiàn)，LCD/TP沉澱料光刻(kè)膠用于使LCD兩(liang)個玻璃基闆(pan)間的液晶材(cai)料厚度保持(chí)恒定。彩色光(guang)刻膠及黑色(se)光刻膠可賦(fu)予彩色濾光(guāng)片🐉顯色功能(neng)。面闆🏃‍♂️光刻🏃‍♂️膠(jiāo)市場需要構(gòu)成穩定，彩色(se)光刻膠需求(qiu)量領先，預計(jì)2022年全球銷售(shòu)量将達22900噸，銷(xiāo)售額将達8.77億(yi)美元。 TFT面闆用(yong)光刻膠、LCD/TP襯墊(nian)料光刻膠、黑(hei)色光刻膠銷(xiao)售額2022年預計(ji)分别達到3.21億(yi)🍉美元、2.51億美元(yuan)、1.99億美元。根據(jù)智研咨詢測(cè)算，2020年全球面(miàn)闆光刻膠市(shi)場🔞規模将達(dá)到167億人民币(bi)，增速維持在(zài)4%左🔞右。根據我(wǒ)們⭕的測算，到(dào)2025年光刻膠市(shì)場規模将達(dá)到203億人民币(bì)。其中，伴随LCD産(chan)㊙️業中心的轉(zhuan)移，我國LCD光刻(ke)膠市場規模(mó)及國産化率(lǜ)有望逐步提(ti)升。 PCB用光刻膠(jiao) PCB光刻膠可根(gēn)據塗布方式(shi)分爲UV固化油(yóu)墨🐇和UV噴塗油(you)墨。目前國内(nei)PCB油墨供應商(shāng)已逐步實現(xiàn)國産替代🔞，容(róng)大感光、廣信(xìn)材料等企業(ye)已掌握PCB油墨(mò)關鍵技術。國(guó)内對TFT光刻膠(jiāo)和半導體光(guang)刻膠仍在起(qi)步探索階段(duàn)。晶瑞股份🌈、雅(yǎ)克科技、永太(tai)科技、容大感(gǎn)光、欣奕華、中(zhōng)電彩虹、飛凱(kǎi)材料在TFT光刻(kè)膠領域均有(you)布局，其中飛(fēi)凱材料、北旭(xù)電💯子規劃産(chǎn)能高達5000噸/年(nián)，雅克科🚶‍♀️技通(tong)過收🈲購LG化學(xué)下屬彩色光(guang)刻膠事業💘部(bù)切入此市場(chang)，在渠道和技(ji)術🌐方面♈具備(bei)優勢。光刻膠(jiāo)等技術壁壘(lěi)極高的行業(yè)，實現技術層(céng)面的突破是(shì)基礎、其次，需(xu)不斷改進工(gōng)藝，滿足半導(dao)🎯體行業快速(su)發展的需要(yao)。由于光刻膠(jiāo)等行業認證(zhèng)👨‍❤️‍👨時間較長💘，客(ke)戶不會輕易(yi)更換供應商(shang)，因此進入主(zhu)流供🐇應鏈是(shì)極其必要的(de)。國内光刻膠(jiāo)生産商未來(lai)有望把握中(zhong)國半導體行(háng)業進🈲口替代(dai)契機，實現快(kuài)速發展。 ◆ 資🈲料(liào)來❓源：電子材(cai)料圈 ◆ 免責聲(sheng)明：所載内容(rong)來源于互聯(lián)網，微信公衆(zhōng)号等公開渠(qú)道🍉，我們對文(wén)中觀點持中(zhong)立✨态度💔，本文(wén)僅供參考、交(jiāo)流。轉載的稿(gǎo)件版權歸原(yuan)作者🌈和機構(gòu)所有。

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發(fā)布時間:

2025-12-13

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